日前，維美德再次與斯道拉.恩索公司簽署訂單，向其位于芬蘭Kotka 的Sunila 漿廠提供Valmet IQ過程與質(zhì)量視像(PQV)系統(tǒng)。該系統(tǒng)將于2016年11月投入運(yùn)行。通過對(duì)漿廠6號(hào)漿板機(jī)塵埃度和纖維束的監(jiān)控，生產(chǎn)線的效率同產(chǎn)品質(zhì)量將大幅提高。維美德在2015年向該廠4號(hào)漿板機(jī)提供過一套類似PQV系統(tǒng)。

訂單被納入維美德2016年第三季度新增訂單中。類似自動(dòng)化系統(tǒng)的市場(chǎng)價(jià)格一般不超過100萬(wàn)歐元。

維美德向斯道拉.恩索Sunila漿廠提供的PQV設(shè)備配有一套Valmet IQ紙幅檢測(cè)系統(tǒng)。該系統(tǒng)由一套高分辨率矩陣照相系統(tǒng)和一套匹配光源組成，其作用是獲取漿板缺陷圖像。PQV 系統(tǒng)位于漿板機(jī)烘干部后，可確保工廠高效連續(xù)的在線質(zhì)量控制。

工廠操作人員可從控制室中的工藝控制系統(tǒng)顯示屏上了解塵埃數(shù)量。同時(shí)，還可從另外一個(gè)顯示屏上的缺陷圖掌握塵埃分部情況。通過對(duì)每個(gè)漿包的塵埃度值進(jìn)行跟蹤和質(zhì)量控制，PQV可提供Sunila低塵埃度的在線報(bào)告。平均塵埃度可含在客戶供貨范圍中。

與其它紙幅檢測(cè)系統(tǒng)不同的是，新系統(tǒng)采用四臺(tái)矩陣相機(jī)，可確保LED光束在不受運(yùn)行速度影響的情況下，以極短的閃光時(shí)間生成清晰的圖像。照相系統(tǒng)光線不閃動(dòng)，因此不會(huì)傷害眼睛。閃光時(shí)間短，能量要求低，可避免發(fā)熱。采用高級(jí)成像原理的圖像分析軟件可對(duì)最小的塵埃顆粒和纖維束加以探測(cè)歸類。